產品分類-
產品型號
CGST3100 -
廠商性質
生產廠家 -
更新時間
2025-05-22 -
瀏覽次數
1770
產品描述
全自動去膠機產品介紹：$n1設備名稱：全自動干法去膠機$n2設備型號：CGST3100$n3設備原理：ICP$n4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch兼容）$n5晶圓材料Wafer material: Si基（若為其他材料需寫明）
24 小時銷售熱線15955179814
相關文章
產品型號
CGST3100廠商性質
生產廠家更新時間
2025-05-22瀏覽次數
1770產品描述
全自動去膠機產品介紹：$n1設備名稱：全自動干法去膠機$n2設備型號：CGST3100$n3設備原理：ICP$n4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch兼容）$n5晶圓材料Wafer material: Si基（若為其他材料需寫明）
產品型號
UV-8廠商性質
生產廠家更新時間
2025-10-13瀏覽次數
1715產品描述
UV紫外臭氧清洗機擁有工業級別的清洗效率和效果，采用更簡易操作的抽屜式托盤設計，廣 泛應用于光伏（鈣鈦礦電池），半導體芯片（晶圓）和光學元件及光通訊領域，適用于中小尺寸基片清 洗，如液晶面板，ITO，FTO，光學玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金屬片，聚合物，硅膠等表面清洗， 有效清洗基片的表面有機物，即進行表面改質，從而有效提高基片表面的親水性或附著力。
產品型號
CG-P系列廠商性質
生產廠家更新時間
2025-10-13瀏覽次數
1513產品描述
真空等離子清洗機(Plasma cleaner),氣體通過激勵電源離化成等離子態，等離子體作用于產品 表面，清洗產品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環保、高效、穩定的表面處理方式。 產品優勢 產品放置治具靈活多變，可適應不規則的產品。 水平電極設計，可滿足軟性產品處理需求。 低耗能、耗氣產品。 便捷的收放板方式。 真空系統集成，占地面積小。 合理的等離子反應空間。
產品型號
CGST3100廠商性質
生產廠家更新時間
2025-05-22瀏覽次數
1437產品描述
全自動干法去膠機產品介紹：$n1設備名稱：全自動干法去膠機$n2設備型號：CGST3100$n3設備原理：ICP$n4晶圓尺寸Wafer size: 8 inch（4或6 inch兼容）$n5晶圓材料Wafer material: Si基（若為其他材料需寫明）
